В Японии придумали, как снизить стоимость процессоров и чипов
В Японии разработали новый EUV-сканер для производства микросхем в среде экстремального ультрафиолета. Он значительно дешевле сканеров одного из самых крупных поставщиков оборудования ASML. Об этом пишет сайт 3dnews.ru.
Разработанная литографическая система использует два зеркала вместо шести. Благодаря новому укороченному оптическому пути более 10% начальной EUV-энергии может достигнуть пластины по сравнению с 1% в используемых сейчас установках. Это, по словам ученых, является серьезным прорывом.
Новый EUV-сканер эффективнее передает свет, а метод «двойного линейного поля» показывает фотошаблон, практически исключая искажения и усиливая точность изображения на кремниевой пластине.
Если инновационный сканер поступит в массовое производство, то стоимость процессоров и других микросхем станет значительно ниже.